Automatisierte optische IVS-Messsysteme
Offizieller Vertreter in Europa für IVS-Produkte von INSPECTROLOGY

Produkte


Einfache Handhabung der optischen IVS-Systeme für kritische Abmessungen (CD) und Overlay-Messungen

EUMETRYS, kurz für EUropeanMETRologysYStem (europäisches Unternehmen für Messtechnik), ist ein Serviceunternehmen, das sich auf die Betreuung von Messsystemen der Halbleiter-, Verbindungshalbleiter-, MEMS- und LED-Industrie spezialisiert hat.
 
EUMETRYS verfügt über jahrelange Erfahrung in der optischen Messtechnik. Darauf aufbauend vertreibt EUMETRYS komplette optische Messsysteme und Ersatzteile, bietet Wartungs- und Anwendungsleistungen für Messsysteme an sowie Kundenschulungen (Prozess und Wartung) für die Fertigung von mikroelektromechanischen Systemen (MEMS), Halbleitern, Verbindungshalbleitern (GaAs, GaN, SiC, InP) und LEDs (Leuchtdioden).

EUMETRYS ist der offizielle OEM-Vertreter für den Vertrieb und die Betreuung der IVS-Produktlinie von INSPECTROLOGY LLC in Europa.
 


Neues IVS 200-Modell von INSPECTROLOGY

EUMETRYS bietet nun das neue, marktführende automatische COO IVS200-System für optische Messtechnik an

Das neue IVS 200-Modell ist leistungsstärker als das Vorgängermodell der IVS-Reihe und die IVS1xx-Systeme, und enthält zudem eine integrierte, neue Benutzeroberfläche nach SEMI-Standard. Das IVS200-Modell geht über die klassische automatische CD- und Overlay-Messung hinaus, und bietet eine große Bandbreite an Messtechnikalgorithmen, sodass sehr viele unterschiedliche Strukturen für die Halbleiter-, MEMS-, LED-, Energiewirtschaft und Photonikindustrie erzeugt werden können. Der Benutzer kann beispielsweise die Durchkontaktierung (VIA) mithilfe neuer Algorithmen zur Kreiseinpassung und die Linienbreite mit unterschiedlichen Ausrichtungen messen.

Das neue IVS200-Modell bietet große Flexibilität bei Messungen im Bereich der Verbindungshalbleiter sowie Halbleiter, wenn Durchsatzsteigerungen und Kosteneffizienz Ihr Schlüssel zum Erfolg sind.

Für Produktunterlagen (PDF) senden Sie bitte eine Anfrage
 


Photoflexible Handhabung der IVS-Systeme: von 75 mm bis 200 mm ohne Modifikation
 
EUMETRYS vertreibt ein flexibles handhabbares, automatisches optisches Messsystem für die Halbleiter-, MEMS-, LED-, Energiewirtschaft und Photonikindustrie.

Das optische Messgerät IVS200 ist speziell für kritische Abmessungen bzw. die Messung der kritischen Linienbreiten (Critical Dimension oder Line Width) und die photolithographische Überdeckungsgenauigkeit von Strukturen (Overlay-Versatz) vorgesehen.
Es kann ohne Modifikation der Hardware für unterschiedliche Substratgrößen und arten von 3” bis 8” verwendet werden. Das Gerät kann sowohl transparente Substrate als auch gebondete Silizium-Wafer messen.

EUMETRYS vertritt INSPECTROLOGY mit der IVS-Produktlinie in Europa. EUMETRYS vertreibt das neue Modell IVS200 mit den besten Betriebskosten für den Markt von 200 mm und dünneren Substraten.

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Wiederaufgearbeitete Modelle und Gerätenachrüstung für ISV200

Wir verkaufen gebrauchte Geräte preisgünstig ohne Einschränkungen: Eine Garantie wird übernommen und die Spezifikationen werden garantiert
         
Ebenso wie INSPECTROLOGY sind wir der Auffassung, dass die Anforderungen unserer Kunden auch mit dieser kostengünstigen Lösung abgedeckt werden können. Wir haben uns daher entschieden, gebrauchte Geräte, die von unserer Serviceabteilung umfassend wiederaufgearbeitet wurden, anzubieten.
 
An unserem Fertigungsstandort wird die Expertise der Mitarbeiter eingesetzt, um die folgenden unterschiedlichen Vorgängermodelle IVS120 / IVS130 / IVS135 / IVS155 / IVS165 / IVS185 aufzuarbeiten. Diese Systeme wurden in den vergangenen Jahren entwickelt und werden nun auf die aktuelle und leistungsstarke IVS200-Software aufgerüstet.
 
Diese Geräte werden nach den garantierten Originalspezifikationen, mit Zulassung, Schulung und mit einer Garantie von 12 Monaten angeboten. Unsere Serviceleistungen und unsere technische Werksunterstützung gelten in vollem Umfang.

Für Unterlagen zu wiederaufgearbeiteten Produkten (PDF) senden Sie bitte eine Anfrage
 

 
Verfügbare Nachrüstung auf IVS200
          
Alle IVS-Vorgängermodelle können auf die aktuelle IVS200-Software nach dem neuen SEMI-Standard WIN7 GUI und Leistungsoptimierung nachgerüstet werden.
 
Die Vorgängermodelle IVS1x profitieren somit von einer gesteigerten Genauigkeit von 20 %, einer 30 % höheren Durchsatzrate und zeichnen sich durch volle Funktionstüchtigkeit aus.
 
Unsere Serviceabteilungen bieten 2 Nachrüstungsoptionen an:
 
1 - Nachrüstung vor Ort. Die Garantie gilt nur für die ausgetauschten Ersatzteile und die neue Software

2 - Wiederaufarbeitung in unserem Werk. Das Gerät wird mit einer vollen Garantie von 12 Monaten ausgeliefert. 

EUMETRYS bietet unterschiedliche Nachrüstungen des IVS-Systems an und liefert alle notwendigen Ersatzteile der IVS-Produktlinie (sämtliche Modelle).

Für Unterlagen zu nachgerüsteten Produkten (PDF) senden Sie bitte eine Anfrage

Leistungen der IVS-Produktreihe

Das optische IVS-Messsystem ist eine hochentwickelte automatische Plattform, die 75-200 mm dünne Wafer (ohne vorgenommene Hardwaremodifikationen) handhaben kann und dabei die folgenden Messleistungen bietet

Für transparente Substrate bieten wir ein spezielles IVS-System an, bei dem ein transparentes Ausrichtgerät verwendet wird, das eine innovative Abbildungstechnik nutzt. So können transparente Wafer und hochentwickelte Substrate aus Glas, Quarz, GaN, GaAs, LiN und SiC gemessen werden.

In-Chip- oder CD- und Overlay-Messungen mit der gleichen Messvorschrift – für die Standard-Produktionsüberwachung.
 
Das Gerät kann kritische Abmessungen (CD), die Messung des Overlay-Versatzes oder anderer Strukturen innerhalb des Chips Ihres Produkts im Rahmen der Produktionsüberwachung vornehmen.
 

CD-Messung per In-Chip
 

Messung des Overlay-Versatzes per In-Chip

Von Submikrometer-CD- oder Pitchmessungen für hochentwickelte technologische Knoten bis zu umfangreichen CD- oder Pitchmessungen dank der großen Objektivplatte von 150X bis 2,5X.
 
Ausgerichtet auf die unterschiedlichen Kundenbedürfnisse kann der Benutzer mithilfe der Software des IVS200-Systems CD-Messungen jeder Größe umsetzen: Messungen im Standardbereich, im Submikrometerbereich bis zu sehr umfangreichen DC-Messungen zum Feld der Sichtgröße.
 

CD- oder Pitchmessung im Submikrometerbereich
 

Umfassende CD- oder Pitchmessung

Neue SiC / InP Substrate
 
Das IVS200-System kann mithilfe derTransparenz-Funktion neue Substratstrukturen messen und in der Energiewirtschaft, für Wellenleiteranwendungen, in der Photonikindustrie und für Oberflächenemitter (VCSEL) eingesetzt werden.
                         
Das IVS200-System kommt derzeit bei einem Großteil der Verbindungshalbleiter-Hersteller, die Serienfertigungen umsetzen, zum Einsatz.
 

Photonische kritische Abmessungen (CD) von Graten
 

Laseröffnung für Oberflächenemitter

Algorithmus für 3D-Strukturmessungen
 
Strukturierte MEMS-, CD-, CD-Höhen- und VIA-Messungen (dank der Messfunktion der Kreiseinpassung) sind häufige Anwendungen des IVS200-Systems.
          
Durch die Vielseitigkeit der IVS200-Software können In-Chip-Messungen oder Messungen innerhalb der eingezeichneten Linie für unterschiedliche messtechnische Kontrollen bei anspruchsvollen Schichten vorgenommen werden.
 

Anspruchsvolle VIA-Messungen per In-Chip
 

MEMS-Druckkopffeld

Strukturierte LED-, Oberflächenemitter- (VCSEL) / Laser-, CD- und VIA-Messungen.
 
Im Zug der Technologieentwicklung haben sich auch die Anforderungen der Kunden an die Messtechnik gewandelt: Die Entwicklung des IVS200-Systems wurde darauf entsprechend angepasst. Das Gerät verfügt über einen neuen VIA-Algorithmus und neue Funktionen, um z. B. die Öffnung des Oberflächenemitters zu messen.
 

VIA-Messung per In-Chip
 

Messung der Öffnung des Oberflächenemitters

Vollständig nachgewiesene Overlay-Messfähigkeit bis zu Halbleiterprozessen von 110 nm.
 
Das IVS200-System ist eine kostengünstige Lösung für die Messung des Overlay-Versatzes bei hochentwickelten Schichten in einem anspruchsvollen Kontext sowie bei komplexen Strukturen bis hinunter zu einem Prozessknoten von 110 nm.
 

TiN-Overlay-Funktion
 

Overlay-Messung einer komplexen Schicht nach SEMI-Standard

Spezialmessung eines sehr großen Overlay-Versatzes am LETI – Nanopräge-Lithographie (NIL).
 
 
 

CD- oder Pitchmessung im Submikrometerbereich
 

 

Messung einer seltenen Overlay-Struktur und Feineinstellungen
 
In der neuen Produktion von Verbindungshalbleitern kommt bei der Messung des Overlay-Versatzes nicht immer die nach SEMI-Standard vorgesehene Funktion zum Einsatz.
         
Das IVS200-System ermöglicht es, auch nicht genormte Overlay-Versatzmessungen durchzuführen, u. a. Kreuz-auf-Kreuz, Feineinstellungen usw.
 
Unser Anwendungsteam findet für jede Kundenanforderung eine Lösung.
 

Seltene Overlay-Struktur
 

Overlay-Feineinstellungen

IVS200 in virtueller Realität

Wir bei EUMETRYS visualisieren unsere Technologie gern für unsere Kunden als virtuelle Realität. Dieser Service kann direkt über unsere Website abgerufen werden.

Wir nutzen die virtuelle 3D-Realität für das IVS200, um die Eigenschaften des Geräts, die auf die Anforderungen des Kunden angepasst sind, vorzustellen. Wir haben uns dafür entschieden, diese Abrufmöglichkeit direkt auf unsere Website zu stellen, damit die Kunden die Möglichkeit haben, sich zu den Funktionen unseres Messsystems vorab zu informieren. Wir setzen zudem eine erweiterte Realitätsdarstellung mit 3D-Modellen ein, um die geringe Stellfläche dieses automatischen DC- und Overlay-Messsystems zu zeigen.

NUMIX, Das Unternehmen ist Spezialist für 3D-Modelle der virtuellen und erweiterten Realität, und unterstützte uns aktiv dabei, die Mehrwerte der IVS200-Produktlinie gegenüber unseren Kunden herauszustellen. Mithilfe des Unternehmens konnten wir die Vielseitigkeit des IVS-Systems und die flexible Messtechnik in die Funktionen übernehmen. In den 3D-Modellen werden alle vorhandenen Optionen dargestellt, die mit dem System umgesetzt werden können: Automation mit HSMS/GEM-Schnittstellen, Fernzugriff auf IVS-Geräte, Offline-Erstellung von Messvorschriften, automatische Offline-Erstellung von Messvorschriften, optische Zeichenerkennung (OCR), neue, individuell angepasste Messvorlagen.